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第266章 制程路线之争 (上) (第4/5页)

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的巨资,还未问世就已经凉凉也不知道是幸还是不幸。

或epl:朗讯~贝尔实验室、ib佳能、尼康,as被邀请加入后又率先退出,这个阵营的学名叫做电子束直写技术,是所有光刻技术阵营中看起来最吊也最浪漫的那个,同样也是光刻技术的物理极限,更是方伟林的主要来意。

尼康在被as击败之后,曾押宝电子束直写技术拼死一搏,可惜这玩意的研发难度堪称电子行业的可控核聚变,直到梁远偷渡那一刻也没听到入坑十年的尼康搞出什么大新闻。

一般来说,科技的前沿以大学为主多从事基础科技研发,基础科技往往领先产业应用十几年甚至上百年的时间,比如爱因斯坦的质能方程和相对论,产业的前沿则是以大学定向实验室和各类企业研究所为主,实验室技术基本就是未来的工业界主流技术,往往领先工业界现有技术五至十年,比如诺基亚实验室在2000年曾经在实验室中搞出了和苹果手机类似的个人电子终端,可惜被诺基亚高管枪毙掉了。

同样,在九十年代初,从事电子产业研发的各大公司前沿实验室,已经发觉193n长之后,光源的发展忽然陷入了极大的困境,现有的材料完全不支持更短波长的光源有大批量应用的可能,继续缩短波长只能寄托于新材料的发现或者死磕收益率不高的153n长的光源,更新现有电子产业的大部分设备。

由于芯片产业属于高技术行业的缘故,前沿和生产一线的联系十分紧密,实验室的研发困境很快就传导到了产业界,结果虽然193n光源还未普及,但未来的阵营已经隐隐有了迹象。

港基集电作为共和国唯一一家能摸到产业前沿尾巴的微电子集团,内部对未来的技术路线自然也是争执不断,有站队193n定只看眼前的,有站队153n,相比193n升25%也是提升对不对,相比极紫外光反射式euv光刻,153n备的研发难度真是缩小了一个数量级,看起来是个弯道超车的好方案。

还有一部分胆子不小

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