高的芯片良品率和性能稳定性。
那么现在，我们怎么就不能研发更优秀的光源和芯片工艺，去革新半导体技术，从而提升量子芯片的规模和性能呢？
国外ib野心也很大，它甚至敢将摩尔定律拿过来制定超导量子芯片的发展路线图，说每个量子芯片集成的量子比特数目以每年翻倍的速度增加。
一个拥有12英寸晶圆研发制造线和euv光刻机的企业，就敢有如此大的野心。我们九州科技拥有18英寸晶圆的完整技术，还有比euv光刻机更强的ss1光刻机都无法完成破万。
你们认为，英特尔、ib有我们的技术规格，他们能够实现破万的技术门槛吗？”
李由低下了头，目露思索。
他听出来了，面对技术问题，自家顾总给出了两个解决方案。
一是最有效，也最难的方案——技术升级，将ss1光源提升到ss2光源或者是换成其他更优秀的光源。同时将晶圆纯度再提升下去，以及制造工艺、设计逻辑都进行升级。
只要全产业链的技术都升级了，那么这个问题也自然不攻而破。
而第二个方案就有些“简单”了。
向英特尔、ib些西方半导体公司学习，在现有的技术里面，尽可能的发挥每一个工艺的优点。将范围内的事情做到极致，以求突破这个万级量子芯片的限制。
李由能够走到如今的地位，自然不是那种愿意接受简单方案的弱者。
“现有的技术工艺，再怎么进行优化，也不可能有质的改变。当初您领导我们集体研发ss1光源的时候，就曾说过，这是打开了一扇新的技术领域大门。
或许千级量子芯片就是它的限制，但的确是让我们成功走进了量子芯片领域。
只不过对于光源的升级，我们的光学专家，目前还没有找到方向，等待光源升级，还需要时间。”
