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第584章 丧心病狂的远芯 (第2/4页)

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得其更容易达到节点。

此外,早在去年,intel就推出了基于微米制程工艺的pentiummmx,轻而易举地就回到了性能王座的同时,也彰显了其晶圆厂强大的制程工艺实力。

根据小道消息,intel的微米工艺也在突破当中。

相比之下,德远这边,还在为微米工艺打着攻坚战。

与此同时,尼康那边已经采用248nm的krf准分子激光作为下一代光刻机的光源,紧接着便是193nm的arf——也就是大名鼎鼎的duv。届时,凭借多重曝光技术,duv将会把制程节点提高到65纳米的干式光刻极限。

再往后……便是浸没式技术的天下了。

如果说,还有什么能够让苏远山有信心和勇气去直面光刻机的未来,恐怕就是“多灾多难的”双工件台以及目前八字都没一撇的浸没式光刻技术了。

沉默几秒后苏远山沉声道:“对于国家来说,光刻机就是好不容易养出来的金宝贝,不可能就此不管的,我们只需要做好我们应该做的即可。”

说着他用力挥了一下手,仿佛想要挥去阴霾和迷雾。

陈静见状毫不掩饰自己的心疼,轻声道:“要不自由讨论一下?”

“没事,下一条。”苏远山抿了抿嘴,紧接着望向田耀明,末了又看了一眼末尾的李逸男一眼。

“技术封锁,除了禁止引进技术之外,还包括从政策上阻止我们的技术以及产品扩张。无线通讯是未来的发展趋势甚至是未来方向,这已经是世界公认——就连咱们国家都开始成立信产部了。”

“所以,你们通讯部门的想法呢?”

田耀明在远芯一向以乐观开朗著称,此时也都皱起了眉头,他抿了抿嘴后还是没说什么,而是探出了身子,望了一眼李逸男。

李逸男会意,轻轻咳了一声后沉声道:“就通讯技术和标准而言,我们已经初步完成了专利壁垒的构筑,同时也提前与高通,爱立信等通

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