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第三百零三章 表彰重奖 (第1/3页)

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表彰重奖

阳威力通过对讲机沟通,让一位名为柏巧玲的女工,送来了几十片已经涂好光刻胶的硅晶圆,廉安平教授亲自动手,将硅晶圆安置到光刻机晶圆入口处的支架上,然后按下操作面板上的启动按钮。光刻机内部传出细微的机械转动声音,一张硅晶圆被机械臂送进光刻机内部,在深色玻璃观察窗上,亮起一抹深邃的紫色光芒,开始对硅晶圆进行加工。

见状,刘焱出声询问道:

“这台光刻机使用的是哪种光源,是高压汞灯产生的436nmg-line和365nmi-line,还是248nm的KrF(氟化氪)准分子激光作为光源?”

乌光辉回答道:

“现在使用的是高压汞灯产生的365nmi-line作为光刻光源,理论上,这种光源能一直将光刻机的加工精度提升到0.35微米,作为未来一两代光刻机的光源足够使用了。准分子激光光源,是下一代光刻机光源技术,咱们研发部已经立项开始研发,但这种技术在世界范围内,也是最前沿研发项目,开发难度非常高,不是短期内能攻克的。”

这台光刻机的加工速度还是很快的,即使是初次测试,柏巧玲拿来的几十片硅晶圆也在二分钟内,全部完成了光刻加工。这些光滑如镜的硅晶圆上,多了很多方块状的纹路。测试用的掩膜版,是晶圆工厂正在生产的aRm1芯片掩膜版,其复杂程度和尺寸大小,是晶圆工厂出产的所有芯片之最。

按照原本的计划,第一次光刻测试,应该选用最为简单的单片机芯片作为加工目标,这样一来,就可以从易到难,逐步查漏补缺,将光刻机修改完善。但廉安平教授和几个主要研发人员,对光刻机测试样机非常有信心,直接上了最大难度,也是需求量最大的aRm1芯片。

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