然有多个关键问题没有解决。
intel、三星、台积电半导体三巨头，投了巨额资金，给全球顶级的光刻机厂家as，用来开发euv技术，以期维持半导体行业的持续发展。
euv技术是延续摩尔定律，让7n5n艺，成功量产的希望。
而且，euv技术，也是东华国内半导体制作技术，实现弯道超车的机会，超越国际的难得机会。
在传统工艺上，东华已经难以超过西方了，即便是超过，也马上就要过时，只能用来生产低级芯片。
东华在上个世纪九十年代，就开始进行euv相关方面的研究。
2002年，研制出国内第一套euv极紫外光刻原理装置。
2008年，在中科院的主导下，已经多家高校和科研机构参与到研究中，
2017年，（本章未完，请翻页）
